下記のとおり，講演会を開催いたしますので

興味のある方は奮ってご参加ください。

　　　　　　　記

日時　平成24年3月2日（金）　15：00-16：00

場所　先端研405N講義室

講演タイトル:

ATRACTIVE LOW-TEMPERATURE CRYSTALLIZATION OF Si FILMS

(Si薄膜の有効な低温化結晶化技術とTFT）

講師:　野口　隆 氏

　　　琉球大学　工学部　電気電子工学科　教授

お問い合せ先：

半導体集積科学専攻　教授　東　清一郎

内線：7655

e-mail: sehiga＠hiroshima-u.ac.jp　（＠は半角にして送信してください）