半導体産業技術研究所

ナノデバイス研究所

研究所の概要

 2024年4月にナノデバイス研究所は半導体産業技術研究所に改組しました。これまでに培ってきた強みを活かすとともに半導体の産業技術に関する分野を俯瞰して一気通貫で研究・開発を進めていく体制にしました。研究所は半導体戦略研究部門、ナノデバイス研究部門、異分野融合研究部門の3つの研究部門と研究支援・設備運営室で構成されています。半導体戦略研究部門は学内外と緊密に連携して当研究所のみならず半導体産業技術に関する戦略の提言ができるような組織を目指します。その戦略にのっとり、2つの研究部門
が相互に理解連携しながら研究を進めていけるようにします。

 本研究所は引き続き、文部科学省 生体医歯工学共同研究拠点、次世代X-nics半導体創生拠点により、半導体コミュニティーを中心とした最先端研究・人材育成を進めるとともにマテリアル先端リサーチインフラ(ARIM)を通じて、広島大学が保有するクラス10,100の本格的なクリーンルーム内外の設備の共用化により、学内外の研究者支援を行っていきます。また、経済産業省J-Innovation HUB事業の補助によって建設されたJ-Innovation HUB棟を中心に活動するせとうち半導体コンソーシアムでは、産官学連携により、学生のみならず社会人の育成と先端研究に取り組んでいきます。国内外における半導体産業の重要性は高まるばかりです。当研究所は今後の半導体産業に貢献できるような研究・開発と人材育成を進めて行きます。

研究所からのメッセージ

 半導体産業技術研究所は材料物理・化学及び電子・電気・情報・通信工学から、バイオセンシングや医療工学の分野における実践的な研究を希望する大学院生を学内外から広く募集します。また、社会人博士課程学生や客員研究員、留学生や外国人研究員も受け入れており、国際的な活動も含めて社会と幅広い交流を持ちながら勉強できます。

【お問い合わせ先】

半導体産業技術研究所
〒739-8527
東広島市鏡山1-4-2
電話:(082)424-6265
FAX:(082)424-3499
E-mail:rnbs@hiroshima-u.ac.jp(@は半角@に置き換えてください)


up